项目名称：Inula DCC-900显影机产品工业设计

服务内容：成都工业设计、产品人机工程设计、结构设计

工业设计团队：成都华羽创新工业设计团队，4人

产品设计周期：外观设计10工作日、结构设计7工作日、结构优化调整15工作日

材质工艺选择：产品外壳采用钣金喷漆工艺，采用深灰色金属漆，以细腻的磨砂质感提升产品品质感。

设计背景：涂胶显影机在集成电路制造中扮演着至关重要的角色，它作为光刻工艺的核心辅助设备，精准地连接了曝光前后的关键步骤。在光刻胶涂覆阶段，该机器通过精密的机械手系统，将晶圆准确无误地传输至涂胶模块，确保光刻胶均匀、无缺陷地覆盖在晶圆表面，为后续曝光过程奠定坚实基础。而在曝光完成后，涂胶/显影机则转换为显影模式，利用特定的化学溶液将曝光后的光刻胶图案精确显影出来，形成精细的电路图案。显影机被广泛用于LED芯片制造、化合物半导体制造以及功率器件；也用于先进集成电路的前道晶圆加工以及后道先进封装工艺。

设计简介：华羽工业设计接收到的设计任务内容包含显影机主机，晶圆转移推车，电器柜的外观设计，和整体结构设计，以及产品落地生产加工。整体设计以简约柔和的钣金设计为主，深灰色金属漆的表现，极大地突显了产品的品质感。在设计中充分考虑了人机工程学的原理，优化设备的操作界面和人机交互方式，提高操作人员的舒适度和工作效率。绿色的LED灯光，既是设备运行的指示灯，又是产品外观的氛围灯。

工业设计特点：Inula DCC-900采用前沿的动态旋覆技术，结合精密流量调控、独特流涂覆设计、基片旋转模式与位置精准调整，以及灵活的显影与终止控制策略，确保1050mm×1050mm及以下尺寸基片（包括石英、光学玻璃、硅片）在显影过程中实现线宽高度一致性，显著提升加工精度。

工业设计服务评价：Inula DCC-900大口径清洗显影一体机，以技术创新引领行业发展，为高精度、大尺寸基片的显影工艺提供一站式解决方案。