显影机产品工业设计
2024-07-19 17:26:00

项目名称:Inula DCC-900显影机产品工业设计

服务内容:成都工业设计、产品人机工程设计、结构设计

工业设计团队:成都华羽创新工业设计团队,4人

产品设计周期:外观设计10工作日、结构设计7工作日、结构优化调整15工作日

材质工艺选择:产品外壳采用钣金喷漆工艺,采用深灰色金属漆,以细腻的磨砂质感提升产品品质感。

设计背景:涂胶显影机在集成电路制造中扮演着至关重要的角色,它作为光刻工艺的核心辅助设备,精准地连接了曝光前后的关键步骤。在光刻胶涂覆阶段,该机器通过精密的机械手系统,将晶圆准确无误地传输至涂胶模块,确保光刻胶均匀、无缺陷地覆盖在晶圆表面,为后续曝光过程奠定坚实基础。而在曝光完成后,涂胶/显影机则转换为显影模式,利用特定的化学溶液将曝光后的光刻胶图案精确显影出来,形成精细的电路图案。显影机被广泛用于LED芯片制造、化合物半导体制造以及功率器件;也用于先进集成电路的前道晶圆加工以及后道先进封装工艺。

设计简介:华羽工业设计接收到的设计任务内容包含显影机主机,晶圆转移推车,电器柜的外观设计,和整体结构设计,以及产品落地生产加工。整体设计以简约柔和的钣金设计为主,深灰色金属漆的表现,极大地突显了产品的品质感。在设计中充分考虑了人机工程学的原理,优化设备的操作界面和人机交互方式,提高操作人员的舒适度和工作效率。绿色的LED灯光,既是设备运行的指示灯,又是产品外观的氛围灯。

工业设计特点:Inula DCC-900采用前沿的动态旋覆技术,结合精密流量调控、独特流涂覆设计、基片旋转模式与位置精准调整,以及灵活的显影与终止控制策略,确保1050mm×1050mm及以下尺寸基片(包括石英、光学玻璃、硅片)在显影过程中实现线宽高度一致性,显著提升加工精度。

工业设计服务评价:Inula DCC-900大口径清洗显影一体机,以技术创新引领行业发展,为高精度、大尺寸基片的显影工艺提供一站式解决方案。

 

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